薄膜物理与技术pdf电子书版本下载

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第一章 真空技术基础 1

1-1 真空的基本知识 1

1-2 稀薄气体的基本性质 3

1-3 真空的获得 7

1-4 真空的测量 13

第二章 真空蒸发镀膜法 17

2-1 真空蒸发原理 17

2-2 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布 25

2-3 蒸发源的类型 35

2-4 合金及化合物的蒸发 41

2-5 膜厚和淀积速率的测量与监控 50

3-1 溅射镀膜的特点 60

第三章 溅射镀膜 60

3-2 溅射的基本原理 61

3-3 溅射镀膜类型 85

3-4 溅射镀膜的厚度均匀性 101

第四章 离子镀膜 104

4-1 离子镀原理 104

4-2 离子镀的特点 105

4-3 离子轰击的作用 107

4-4 离子镀的类型 110

第五章 化学气相沉积 118

5-1 化学气相沉积的基本原理 118

5-2 化学气相沉积的特点 124

5-3 CVD方法简介 126

5-4 低压化学气相沉积 129

5-5 等离子体化学气相沉积 130

5-6 其他化学气相沉积法 132

第六章 溶液镀膜法 136

6-1 化学反应沉积 136

6-2 阳极氧化法 138

6-3 电镀法 139

6-4 LB膜的制备 140

第七章 薄膜的形成 144

7-1 凝结过程 144

7-2 核形成与生长 148

7-3 薄膜形成过程与生长模式 156

7-4 溅射薄膜的形成过程 159

7-5 薄膜的外延生长 160

7-6 薄膜形成过程的计算机模拟 161

第八章 薄膜的结构与缺陷 166

8-1 薄膜的结构 166

8-2 薄膜的缺陷 175

8-3 薄膜结构与组分的分析方法 181

第九章 薄膜的性质 189

9-1 薄膜的力学性质 189

9-2 金属薄膜的电学性质 198

9-3 介质薄膜的电学性质 209

9-4 半导体薄膜的性质 222

9-5 薄膜的其他性质 230

参考文献 237