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影响世界发明专利

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文件大小:135MB 标注页数:639页 文件页数:661页

MD5:762011253c0051325a5d7f0d22ed435a

ISBN:9787302222798

出版社:北京:清华大学出版社

作者:胡佐超,戴吾三编著

出版时间:2010