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集成电路器件电子学pdf电子书版本下载

集成电路器件电子学
  • (美)马勒(Muller,R.S.),(美)卡明斯(Kamins,T.I.)著;孙彦卿译 著
  • 出版社: 北京:科学出版社
  • ISBN:15031·646
  • 出版时间:1985
  • 标注页数:466页
  • 文件大小:15MB
  • 文件页数:481页
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图书目录

目录 1

第一章 电子学和工艺学 1

1.1 半导体材料物理 2

1.2 晶体中的自由载流子 24

1.3 半导体工艺学 36

1.4 器件:集成电路电阻 61

小结 68

习题 70

第二章 金属-半导体接触 76

2.1 电子系统中的平衡 76

2.2 理想化的金属-半导体结 80

2.3 电流-电压特性 91

2.4 非整流(欧姆)接触 100

2.5 表面效应 106

2.6 金属-半导体器件:肖特基二极管 112

小结 116

习题 117

第三章 pn结 123

3.1 缓变杂质分布 124

3.2 pn结 130

3.3 反向偏置pn结 144

3.4 结击穿 150

3.5 器件:结型场效应晶体管 160

小结 169

习题 171

第四章 pn结电流 177

4.1 连续性方程 177

4.2 产生与复合 180

4.3 pn结的电流-电压特性 192

4.4 电荷存贮和二极管瞬变过程 209

4.5 器件:集成电路二极管 220

小结 227

习题 228

第五章 双极晶体管Ⅰ:基本操作原理 236

5.1 晶体管作用 237

5.2 有效偏压 246

5.3 晶体管开关 257

5.4 埃伯斯-莫尔模型 263

5.5 器件:平面双极放大和开关晶体管 270

小结 277

习题 279

第六章 双极晶体管Ⅱ:局限性和模型 284

6.1 集电极偏压变化效应(厄尔利效应) 285

6.2 低、高发射极偏压效应 290

6.3 基极渡越时间 307

6.4 电荷控制模型 311

6.5 小信号晶体管模型 326

6.6 计算机模拟双极晶体管模型 335

6.7 器件:pnp晶体管 341

小结 350

习题 352

第七章 氧化物-硅系统的特性 361

7.1 MOS结构 362

7.2 MOS系统的电容 371

7.3 MOS电子学 375

7.4 氧化物和界面电荷 383

7.5 pn结的表面效应 390

7.6 MOS电容器和电荷耦合器件(CCD) 395

小结 401

习题 404

第八章 绝缘栅场效应晶体管 409

8.1 电流-电压特性 411

8.2 IGFET参数 424

8.3 MOS集成电路 434

8.4 二级近似考虑 441

8.5 器件:离子注入IGFET 450

小结 457

习题 460

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