电子束扫描曝光技术pdf电子书版本下载

点此进入-本书在线PDF格式电子书下载【推荐-云解压-方便快捷】直接下载PDF格式图书。移动端-PC端通用
种子下载[BT下载速度快] 温馨提示：（请使用BT下载软件FDM进行下载）软件下载地址页 直链下载[便捷但速度慢]   [在线试读本书]   [在线获取解压码]

电子束扫描曝光技术PDF格式电子书版下载

下载的文件为RAR压缩包。需要使用解压软件进行解压得到PDF格式图书。

建议使用BT下载工具Free Download Manager进行下载,简称FDM(免费,没有广告,支持多平台）。本站资源全部打包为BT种子。所以需要使用专业的BT下载软件进行下载。如 BitComet qBittorrent uTorrent等BT下载工具。迅雷目前由于本站不是热门资源。不推荐使用！后期资源热门了。安装了迅雷也可以迅雷进行下载！

（文件页数 要大于 标注页数，上中下等多册电子书除外）

注意：本站所有压缩包均有解压码： 点击下载压缩包解压工具

第一章 绪论 1

一、电子束扫描曝光的含义 1

二、电子束曝光的优越性 3

三、曝光机类型与组成 6

四、曝光机的发展与应用 11

参考资料 15

第二章 电子束的形成与偏转 17

第一节 电子枪 17

一、发射极 18

二、电子束的形成 25

三、电子束的交叉截面 27

四、交叉截面的电流密度 28

五、亮度 32

六、三级电子枪的交叉截面半径 33

第二节 磁透镜 36

一、磁透镜 36

二、象差 42

三、色差 49

四、机械误差和其它破坏轴对称因素 52

第三节 电子束的偏转 56

一、磁偏转 57

二、偏转畸变与象差 59

三、静电偏转 61

第四节 偏转系统与扫描 64

一、矢量扫描法 66

二、光栅扫描法 70

第五节 电子光柱体的类型 72

一、高斯圆束电子光柱体 73

二、固定成形束电子光柱体 74

三、可变成形束电子光柱体 76

四、字符成形束电子光柱体 79

参考资料 81

第三章 电子抗蚀剂掩模与图形转印 83

第一节 电子抗蚀剂的性能 83

一、灵敏度 86

二、反差 91

三、分辨率 93

第二节 抗蚀剂图形制作工艺 95

一、涂胶 95

二、前烘 95

三、曝光 96

四、熟化 96

五、显影 97

六、后烘 103

第三节 抗蚀剂的掩模作用 104

七、等离子体去渣 104

一、加厚工艺用的抗蚀剂掩模 105

二、减薄工艺用的抗蚀剂掩模 108

三、亚微米图形掩模 115

第四节 电子抗蚀剂材料 123

一、负电子抗蚀剂 124

二、正电子抗蚀剂 141

参考资料 153

一、质点弹性碰撞 155

第一节 电子与抗蚀剂的相互作用 155

第四章 电子散射与邻近效应 155

二、散射截面 157

三、弹性散射截面的计算 159

四、电子的能量丢失与电子射程 162

第二节 薄胶层的吸收能量密度 166

一、散射效应 166

二、吸收能量密度 171

三、前向电子(前散射)的作用 173

四、胶中背散射电子的作用 176

五、衬底背散射电子的作用 178

第三节 近似分析函数 182

一、蒙特卡罗模拟 182

二、近似分析函数 184

三、近似分析函数的参数 189

第四节 胶层等能量密度剖面轮廓 192

一、剖面轮廓 192

二、分辨率 195

三、图形线宽 197

一、邻近函数 202

第五节 邻近效应 202

二、邻近函数的参数 204

三、减小邻近效应的方法 205

第六节 自一致邻近校正技术 207

一、邻近相互作用的计算 210

二、校正计算与图形分区 212

三、图形数据分割 218

四、程序包SPECTRE 225

第七节 邻近校正中的几种技术 226

一、尺寸调整与束点校正 227

二、快速图形分割技术 229

三、光栅扫描的邻近校正 234

四、声表面波器件图形的邻近校正 238

参考资料 246

第五章 掩模版与基片直接曝光 249

第一节 曝光参数的选用 249

一、数字分辨率 249

二、电子抗蚀剂 252

三、束流 253

第二节 位置精变 255

一、激光干涉仪精密定位 256

二、基片直接曝光的套准问题 258

三、翘曲基片的校正 260

第三节 套准标志及其信号处理 264

一、套准标志 264

二、标志信号的产生 268

三、探测装置 273

四、信噪比 283

五、标志信号处理 285

第四节 自动套准系统 291

一、标志探测 294

二、模拟信号处理 297

三、数字数据处理 299

第五节 曝光工作时间估计 304

一、芯片实际书写时间Te 304

二、辅助时间To 306

三、8K FET存贮器芯片书写扫描时间 309

第六节 电子束曝光在微型器件制造中的应用 312

一、磁泡 313

二、约瑟夫逊超导器件 317

三、集成光路 319

四、声表面波器件 324

参考资料 325

第六章 电子束扫描曝光机简介 328

第一节 VS-1矢量扫描圆束机 328

一、概述 328

二、电子光柱体 332

三、机械工件台系统 338

四、VS-1机的自动控制 340

五、软件 353

第二节 LEBES矢量曝光机 355

一、电子光柱体 355

二、机械系统 357

三、电子部件 358

四、计算机系统与软件 359

一、概述 369

第三节 EBMF6型微细加工机 369

二、电子光柱体 372

三、机械系统 374

四、图形发生器及信号处理 376

五、计算机系统与软件 381

第四节 MEBES型光栅扫描机 385

一、电子光柱体 386

二、机械系统 388

三、电子部件 392

四、计算机系统与软件 396

第五节 EL-1型固定成形束机 403

一、电子光柱体 404

二、EL-1的动态校正 407

三、自动套准系统 411

四、EL-1机的改进 413

第六节 EB55可变成形束机 419

一、概述 419

二、电子光柱体 420

参考资料 424