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第一章 微电子发展的技术基础与历史背景 1

一、半导体导电理论简介 1

二、半导体晶体管 9

三、微电子的工艺基础——硅平面工艺与硅平面型晶体管 16

四、MOS（金属——氧化物——半导体）晶体管 24

五、大规模集成电路及其集成度的提高 31

第二章 集成度提高的核心技术—微细图形加工技术 33

一、光刻技术 36

二、光掩模制作技术 46

三、遮蔽式复印曝光技术 60

四、光学投影成象曝光技术及DSW技术 64

五、高能束投影曝光技术 69

六、微细刻蚀技术 78

七、提高光刻分辨率及精度的新方向 83

第三章 微电子发展中几项重要工艺与技术问题 101

一、微电子中的掺杂技术 101

二、晶体生长技术在微电子中的应用 114

三、表面薄膜生成技术 125

四、VLSI的CAD和CAT 136

五、微电子与超纯水和化学试剂 141

六、微电子工艺环境的净化要求与生产自动化问题 150

第四章 微电子技术的工业化成就与前景 154

一、通用数字与模拟集成电路 154

二、计算机与系统的集成化 160

三、数字信号处理与高速运算的集成化实现 166

四、专用集成电路ASIC 168

五、建筑在微电子技术基础上的电力电子器件及其节能省材的作用 176

第五章 微电子技术在线路与应用方面的新领域 184

一、从二值逻辑谈到多值逻辑 185

二、模糊逻辑和连续值逻辑电路及其应用 188

三、微电子技术应用新领域…人工神经网络 200

第六章 发展我国微电子工业的探讨 206

一、微电子技术的特点及其与其他学科的关系 206

二、我国发展微电子中的某些问题 207