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国外半导体电子束曝光离子注入技术动向
  • 上海科学技术情报研究所编写 著
  • 出版社: 上海科学技术情报研究所
  • ISBN:
  • 出版时间:1972
  • 标注页数:34页
  • 文件大小:7MB
  • 文件页数:37页
  • 主题词:

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图书目录

电子束曝光技术动向 1

一、电子束曝光技术的发展概况 2

二、几种电子束曝光方法 3

三、电子束曝光的应用概况 5

四、几点情况 8

参考资料 13

离子注入技术动向 15

一、国外离子注入法研究概况 16

二、离子注入半导体器件动向 17

三、离子注入设备动向 24

四、离子注入技术动向 27

参考资料 34

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