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第1章 引论 1

1.1 真空镀膜技术及其特点 1

1.2 真空镀膜技术的发展和应用 2

1.3 真空镀膜技术的分类 3

第2章 真空镀膜基础 5

2.1 气体与固体的相互作用 5

2.2 膜的生长 11

2.3 膜的应力 13

2.4 膜的附着强度 15

2.5 膜的基本性质 22

第3章 真空蒸发镀膜 25

3.1 真空蒸发镀膜原理 25

3.2 蒸发源 32

3.3 蒸发源的蒸发特性及其膜厚分布 56

3.4 某些特定材料的蒸发技术 62

3.5 间歇式真空蒸发镀膜机 70

3.6 半连续式真空蒸发镀膜机 71

第4章 真空溅射镀膜 80

4.1 溅射技术 80

4.2 直流溅射镀膜 94

4.3 磁控溅射镀膜 99

4.4 射频溅射镀膜 118

4.5 反应溅射镀膜 123

4.6 磁场计算 124

4.7 水冷系统的设计与计算 130

4.8 膜厚均匀度 131

第5章 真空离子镀膜和束流沉积技术 137

5.1 真空离子镀膜 137

5.2 离子束沉积技术 174

5.3 分子束外延技术 182

第6章 化学气相沉积技术 186

6.1 CVD 技术的原理、特点和应用 186

6.2 CVD 方法简介 189

6.3 低压化学气相沉积(LPCVD)技术 191

6.4 等离子增强化学气相沉积(PECVD)技术 198

6.5 其它化学气相沉积法 207

第7章 真空离子注入技术 211

7.1 概述 211

7.2 离子束与固体作用的基本物理过程 211

7.3 几种离子注入的新方法 214

7.4 离子注入装置 215

7.5 离子注入及离子束混合的一些应用 224

第8章 薄膜微细加工技术 226

8.1 概述 226

8.2 离子束刻蚀 228

8.3 糠酸溅射刻蚀 240

8.4 等离子体反应刻蚀 241

8.5 反应离子刻蚀 244

第9章 真空镀膜设备若干构件的设计与计算 248

9.1 镀膜室的设计与强度计算 248

9.2 镀膜室升降机构的设计 255

9.3 镀膜室工件架的设计 259

9.4 真空镀膜机的烘烤与测温装置 263

9.5 真空镀膜机的挡板机构 266

9.6 真空系统与充气系统 266

9.7 电和运动的导入 273

第10章 薄膜厚度的测量与监控 276

10.1 电学测量法 276

10.2 光学测量法 281

10.3 机械测量法 285

第11章 真空镀膜设备的安装与维护 288

11.1 安装环境 288

11.2 调试前的准备工作 288

11.3 调试 288

11.4 使用操作程序 289

11.5 真空系统操作过程中的注意问题 289

11.6 真空镀膜设备运转故障的消除 290

参考文献 292