图书介绍
硅超大规模集成电路工艺技术 理论、实践与模型pdf电子书版本下载
- （美）普卢默（Plummer，J.D.） 著
- 出版社： 北京：电子工业出版社
- ISBN：7505386387
- 出版时间：2003
- 标注页数：818页
- 文件大小：88MB
- 文件页数：837页
- 主题词：硅－超大规模集成电路－技术－高等学校－教材－英文
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图书目录
第1章 引言及历史展望 1
第2章 现代CMOS工艺技术 49
第3章 晶体生长、晶圆片制造及硅晶圆片的基本特性 93
第4章 半导体生产——洁净室、晶圆片清洗与吸杂 151
第5章 光刻 201
第6章 热氧化及硅/二氧化硅界面 287
第7章 杂质扩散 371
第8章 离子注入 451
第9章 薄膜淀积 509
第10章 刻蚀 609
第11章 后道工艺技术 681
附录 787
索引 805