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硅超大规模集成电路工艺技术 理论、实践与模型pdf电子书版本下载

硅超大规模集成电路工艺技术  理论、实践与模型
  • (美)普卢默(Plummer,J.D.) 著
  • 出版社: 北京:电子工业出版社
  • ISBN:7505386387
  • 出版时间:2003
  • 标注页数:818页
  • 文件大小:88MB
  • 文件页数:837页
  • 主题词:硅-超大规模集成电路-技术-高等学校-教材-英文

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图书目录

第1章 引言及历史展望 1

第2章 现代CMOS工艺技术 49

第3章 晶体生长、晶圆片制造及硅晶圆片的基本特性 93

第4章 半导体生产——洁净室、晶圆片清洗与吸杂 151

第5章 光刻 201

第6章 热氧化及硅/二氧化硅界面 287

第7章 杂质扩散 371

第8章 离子注入 451

第9章 薄膜淀积 509

第10章 刻蚀 609

第11章 后道工艺技术 681

附录 787

索引 805

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