图书介绍
微电子器件基础pdf电子书版本下载
- 曾云编著 著
- 出版社: 长沙:湖南大学出版社
- ISBN:781053999X
- 出版时间:2005
- 标注页数:330页
- 文件大小:13MB
- 文件页数:347页
- 主题词:微电子技术-电子器件
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图书目录
第1章 PN结二极管 1
第1节 PN结杂质浓度分布 1
1 突变结 1
2 缓变结 2
第2节 平衡PN结 4
1 空间电荷区 4
2 能带图 5
3 接触电势差 8
4 载流子浓度 8
第3节 PN结空间电荷区电场和电位分布 10
1 突变结 11
2 线性缓变结 13
3 耗尽层近似讨论 15
第4节 PN结势垒电容 16
1 突变结势垒电容 17
2 线性缓变结势垒电容 18
第5节 PN结直流特性 19
1 PN结非平衡载流子注入 20
2 PN结反向抽取 21
3 准费米能级和载流子浓度 22
4 直流电流电压方程 24
5 影响PN结直流特性的其他因素 29
6 温度对PN结电流电压的影响 37
1 小信号交流特性 39
第6节 PN结小信号交流特性与开关特性 39
2 开关特性 44
第7节 PN结击穿特性 47
1 基本击穿机构 47
2 雪崩击穿电压 49
3 影响雪崩击穿电压的因素 55
习题一 59
第2章 特殊二极管 61
第1节 变容二极管 61
1 PN结电容和变容二极管 61
2 电容电压特性 63
3 变容二极管基本特性 66
4 特殊变容二极管 71
第2节 隧道二极管 73
1 隧道过程的定性分析 73
2 隧道几率和隧道电流 75
3 等效电路及特性 78
4 反向二极管 79
第3节 雪崩二极管 79
1 崩越二极管工作原理 80
2 崩越二极管的特性 83
3 几种崩越二极管 85
4 俘越二极管 88
5 势越二极管 92
习题二 95
第3章 晶体管的直流特性 96
第1节 晶体管基本结构与放大机理 96
1 晶体管结构与杂质分布 96
2 晶体管放大机理 98
第2节 晶体管直流电流电压方程 101
1 均匀基区晶体管 101
2 缓变基区晶体管 105
第3节 晶体管电流放大系数与特性曲线 109
1 电流放大系数 109
2 特性曲线 112
3 电流放大系数理论分析 115
4 影响电流放大系数的其他因素 117
第4节 晶体管反向电流与击穿电压 121
1 晶体管反向电流 121
2 晶体管击穿电压 123
第5节 晶体管基极电阻 128
1 梳状晶体管基极电阻 128
2 圆形晶体管基极电阻 131
习题三 133
第4章 晶体管频率特性与开关特性 135
第1节 晶体管频率特性理论分析 135
1 晶体管频率特性参数 135
2 共基极电流放大系数与截止频率 136
3 共射极电流放大系数与频率参数 142
第2节 晶体管高频参数与等效电路 146
1 交流小信号电流电压方程 146
2 晶体管Y参数方程及其等效电路 148
3 晶体管h参数方程及其等效电路 151
4 晶体管高频功率增益和最高振荡频率 153
第3节 晶体管的开关过程 155
1 开关晶体管静态特性 155
2 晶体管的开关过程 156
3 晶体管的开关参数 158
第4节 Ebers-Moll模型和电荷控制方程 159
1 Ebers-Moll模型及等效电路 159
2 电荷控制方程 161
第5节 晶体管开关时间 163
1 延迟时间 163
2 上升时间 164
3 存储时间 166
4 下降时间 170
习题四 172
第5章 晶体管的功率特性 174
第1节 基区电导调制效应 174
1 注入对基区载流子分布的影响 174
2 大注入对电流放大系数的影响 178
3 大注入对基区渡越时间的影响 180
4 大注入临界电流密度 181
1 注入电流对集电结空间电荷区电场分布的影响 182
第2节 有效基区扩展效应 182
2 基区扩展 184
第3节 发射极电流集边效应 187
1 基区横向压降 187
2 发射极有效条宽 189
3 发射极单位周长电流容量 190
4 发射极金属条长 190
第4节 晶体管最大耗散功率 191
1 耗散功率和最高结温 191
2 晶体管的热阻 193
3 晶体管最大耗散功率 195
1 二次击穿现象 196
第5节 晶体管二次击穿和安全工作区 196
2 二次击穿的机理和防止二次击穿的措施 197
3 晶体管的安全工作区(SOA) 201
习题五 202
第6章 晶闸管 203
第1节 晶闸管基本结构与工作原理 203
1 基本结构及静态分析 203
2 工作原理 205
3 电流电压特性 208
第2节 晶闸管导通特性 211
1 定性描述 211
2 导通特性曲线的不同区域 213
3 影响导通特性的其他因素 215
1 反向阻断能力 216
第3节 晶闸管阻断能力 216
2 正向阻断能力 217
3 表面对阻断能力的影响 217
第4节 晶闸管关断特性 218
1 载流子存储效应 219
2 改善关断特性的措施 220
第5节 双向晶闸管 222
1 二极晶闸管 222
2 控制极结构及触发 223
习题六 226
1 MOSFET的结构 227
第7章 MOS场效应晶体管 227
第1节 MOSFET的结构、分类和特性曲线 227
2 MOSFET的类型 229
3 MOSFEF的特性曲线 232
第2节 MOSFET的阈值电压 235
1 阈值电压的定义 235
2 理想MOSFET阈值电压 236
3 MOSFET阈值电压 237
第3节 MOSFET电流电压特性 238
1 线性工作区电流电压特性 239
2 饱和工作区电流电压特性 240
3 击穿区 241
4 亚阈值区的电流电压关系 242
第4节 MOSFET的二级效应 243
1 迁移率变化效应 244
2 衬底偏置效应 244
3 体电荷变化效应 246
第5节 MOSFET的频率特性 247
1 增量参数 248
2 小信号特性与等效电路 251
3 截止频率 252
第6节 MOSFET的功率特性 254
1 MOSFET的极限参数 254
2 功率MOSFET的结构 256
2 温度对阈值电压的影响 260
第7节 MOSFET的温度特性 260
1 温度对载流子迁移率的影响 260
3 温度对漏源电流的影响 261
4 温度对跨导和漏导的影响 262
第8节 MOSFET的小尺寸特性 262
1 短沟道效应 262
2 窄沟道效应 266
3 等比例缩小规则 268
习题七 268
第8章 光电器件与电荷耦合器件 270
第1节 光电效应 270
1 半导体的光吸收 270
2 半导体光电效应 272
第2节 光电池 275
1 基本结构和主要参数 275
2 PN结光电池 277
3 异质结光电池 283
4 金属-半导体结光电池 289
5 太阳能电池 292
第3节 光敏晶体管 294
1 光敏二极管 294
2 光敏三极管 302
3 光敏场效应管 305
4 光控可控硅 307
1 工作原理 309
第4节 电荷耦合器件 309
2 输入与输出 313
3 基本特性 315
4 CCD摄像器件 319
习题八 321
附录 323
一、常用物理常数表 323
二、锗、硅、砷化镓、二氧化硅的重要性质(300K) 323
三、硅与几种金属的欧姆接触系数Rc 324
四、锗、硅电阻率与杂质浓度的关系 325
五、迁移率与杂质浓度的关系 325
六、扩散结势垒宽度和结电容曲线 326
参考文献 327