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多晶硅生产技术
  • 邓丰,唐正林主编 著
  • 出版社: 北京:化学工业出版社
  • ISBN:9787122055019
  • 出版时间:2009
  • 标注页数:195页
  • 文件大小:85MB
  • 文件页数:204页
  • 主题词:半导体材料-硅-生产工艺-教材

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图书目录

第1章 概述 1

1.1硅的简介 1

1.2硅材料工业概况 4

1.3多晶硅的生产方法 7

小结 12

习题 12

第2章 纯水的制备 13

2.1水的概述 13

2.2离子交换法简介 14

2.3去离子水(高纯水)的制备工艺 15

2.4离子交换法制备纯水 17

2.5纯水制备系统主要设备及工作原理 19

2.6纯水制备系统运行控制 26

2.7纯水制备系统的清洗 27

2.8高纯水的测量 30

小结 32

注释 32

习题 32

第3章 工业硅的生产 33

3.1工业硅生产原理及影响因素 33

3.2工业硅生产工艺 38

3.3工业硅生产操作 41

3.4工业硅生产设备 43

3.5生产操作及安全控制 50

3.6烟气净化利用 56

小结 63

习题 64

第4章 氢气的制备和净化 65

4.1氢气的简介 65

4.2氢气的生产工艺 68

4.3氢气的净化、储存和运输 71

4.4氢气的安全使用 73

小结 75

习题 75

第5章 液氯的汽化 76

5.1氯气的性质 76

5.2液氯的汽化 77

5.3氯的存放和安全使用 79

小结 83

习题 84

第6章 氯化氢的合成 85

6.1氯化氢的性质 85

6.2氯化氢的合成原理 85

6.3氯化氢合成工艺过程 86

6.4主要设备及其作用 86

6.5工艺条件选择和操作要点 87

6.6质量控制要点 88

6.7安全控制 89

小结 89

习题 89

第7章 三氯氢硅的合成 90

7.1三氯氢硅制备原理 90

7.2三氯氢硅合成工艺流程 90

7.3三氯氢硅合成的主要设备 91

7.4三氯氢硅合成的工艺条件 94

7.5生产现场操作要点 97

小结 98

习题 99

第8章 三氯氢硅的提纯 100

8.1三氯氢硅中杂质含量的分析 100

8.2提纯三氯氢硅的方法简介 102

8.3精馏的基本概念 102

8.4双组分溶液的气液相平衡 107

8.5精馏原理 112

8.6精馏塔的物料衡算——操作线方程 116

8.7双组分连续精馏过程的计算 126

8.8精馏提纯设备 139

8.9精馏工艺 145

小结 151

习题 151

第9章 三氯氢硅氢还原制备高纯硅 152

9.1三氯氢硅氢还原的原理及影响因素 152

9.2三氯氢硅氢还原的工艺 155

9.3三氯氢硅氢还原操作要点及事故处理 157

9.4三氯氢硅氢还原工艺质量要求 159

9.5三氯氢硅氢还原工艺中的计算 159

9.6还原生产中的热能综合利用 160

小结 161

习题 161

第10章 还原尾气干法回收工艺 162

10.1重要作用和意义 162

10.2干法回收的工艺过程 163

10.3四氯化硅的氢化 165

小结 169

习题 169

第11章 硅芯的制备与腐蚀 170

11.1硅芯的制备 170

11.2硅芯腐蚀 175

小结 176

习题 177

第12章 硅烷法制备高纯硅 178

12.1硅烷的概述 178

12.2原料的制取及处理 180

12.3硅烷的发生 184

12.4硅烷的提纯 189

12.5硅烷热分解制备多晶硅 191

小结 193

习题 194

参考文献 195

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