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半导体硅锗中的离子注入
文件大小:13MB 标注页数:290页 文件页数:301页
MD5:ed31c55b54c066db9fbdac3c34032f7c
ISBN:15031·244
出版社:北京:科学出版社
作者:(美)迈耶(J.W.Mayer等著;余怀之等译
出版时间:1979
国外半导体电子束曝光离子注入技术动向
文件大小:7MB 标注页数:34页 文件页数:37页
MD5:610c00dbdb4876c1549660a9ad8c82b0
ISBN:
出版社:上海科学技术情报研究所
作者:上海科学技术情报研究所编写
出版时间:1972