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高端集成电路制造工艺丛书 等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用
文件大小:82MB 标注页数:376页 文件页数:388页
MD5:8bd8d3da9072d893d58a9c8e3808df18
ISBN:9787302489597
出版社:北京:清华大学出版社
作者:张海洋等编著
出版时间:2018
纳米集成电路制造工艺
文件大小:91MB 标注页数:471页 文件页数:488页
MD5:50562ba9d0abd78c0988a6e2a060a506
ISBN:9787302452331
出版社:北京:清华大学出版社
作者:张汝京编著
出版时间:2017
集成电路制造技术原理与实践
文件大小:42MB 标注页数:0页 文件页数:740页
MD5:0bd8070467c842259dd805d63d9eeed8
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出版时间:未知