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化硅制造

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MD5:ff4348371a51a94e10fb3b0ec6ac152c

ISBN:

出版社:

作者:机械工业部机床工具总局,余森编著

出版时间:未知

化硅晶体生长与缺陷

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文件大小:87MB 标注页数:361页 文件页数:381页

MD5:e59c972799b461c6dab79613bb4f3dff

ISBN:9787030341280

出版社:北京:科学出版社

作者:施尔畏编著

出版时间:2012

化硅耐火材料

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文件大小:17MB 标注页数:365页 文件页数:368页

MD5:88918364aea055c91c81369eabc066e9

ISBN:15062·3646

出版社:北京:冶金工业出版社

作者:梁训裕,刘景林编译

出版时间:1981

化硅高温半导

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文件大小:24MB 标注页数:142页 文件页数:148页

MD5:88c65587e24af25c1f032466d9c3af8d

ISBN:15119·1659

出版社:上海:上海科学技术出版社

作者:(荷)列来,J.A.等著;珥石编译

出版时间:1962

化硅磨料工艺学

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文件大小:11MB 标注页数:376页 文件页数:385页

MD5:5df47775f5b789aa0a60b5c09e5ed367

ISBN:15033·5290

出版社:北京:机械工业出版社

作者:张念东编

出版时间:1982

化硅压敏电阻

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文件大小:8MB 标注页数:30页 文件页数:34页

MD5:8b558db87a3ea3bec2f7c67a193668f2

ISBN:

出版社:上海科学技术情报研究所

作者:邮电部上海电信科学研究所技术情报室编

出版时间:1963

化硅高温半导体

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文件大小:34MB 标注页数:270页 文件页数:277页

MD5:b9c298cc7b6900280d0c6905f3071be5

ISBN:15119·1727

出版社:上海:上海科学技术出版社

作者:(荷)列来lely,J.A.等著;珥石编译

出版时间:1963

化硅宽带隙半导体技术

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文件大小:13MB 标注页数:288页 文件页数:300页

MD5:f100eac62174f2d2f3e5399f3e394c94

ISBN:7030082435

出版社:北京:科学出版社

作者:郝跃等编著

出版时间:2000

化硅半导体材料与器件

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文件大小:60MB 标注页数:332页 文件页数:345页

MD5:92288496ac04e09a1e23c2cc636ff6dd

ISBN:9787121177552

出版社:北京:电子工业出版社

作者:(美)迈克尔·舒尔著

出版时间:2012

先驱体转化法制备化硅纤维

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文件大小:109MB 标注页数:331页 文件页数:344页

MD5:8d6d8519b7492cff43a5ed9895cc1fac

ISBN:9787030591685

出版社:北京:科学出版社

作者:王军,宋永才,王浩,王应德,简科著

出版时间:2018